重点通报！光刻机概念再掀热潮 国风新材连收四涨停

光刻机概念再掀热潮 国风新材连收四涨停

北京 - 6月17日，A股市场光刻机概念板块再度走强，多只相关股票涨幅居前，其中国风新材(SZ: 002879)更是连收四个涨停板，涨势喜人。

利好政策频出 产业发展前景广阔

近期，利好政策频出，为光刻机产业发展注入强劲动力。5月，国务院印发了《新一代信息技术产业发展规划》，明确提出要大力发展光刻机等关键核心技术。6月，国家发展改革委、工业和信息化部等部门联合印发了《关于加快推进产业数字化转型升级的指导意见》，提出要加快关键技术攻关，突破光刻机等重大技术瓶颈。

在政策的利好推动下，光刻机产业发展前景广阔。据市场研究机构预测，未来几年全球光刻机市场将保持快速增长，预计到2025年市场规模将突破2000亿美元。

国风新材深耕光刻胶领域 研发实力雄厚

国风新材是国内领先的光刻胶材料研发商和生产商，公司深耕光刻胶领域多年，研发实力雄厚，拥有多项核心技术专利。公司产品广泛应用于集成电路、平板显示、LED等领域，并已与多家国内外知名企业建立了合作关系。

近年来，国风新材不断加大研发投入，积极攻克光刻机关键技术，取得了显著成果。公司成功研发了多款高性能光刻胶产品，填补了国内空白，打破了国外技术垄断。

未来可期 强者恒强

在光刻机概念板块走强的背景下，国风新材的强势表现无疑是其自身实力的体现。公司未来发展可期，有望在光刻机国产化进程中扮演重要角色。

行业人士表示，光刻机是集成电路制造的核心设备，是国家信息安全和产业自主的重要基础。随着国内半导体产业的快速发展，光刻机国产化需求日益迫切。在政策支持和市场需求的共同推动下，光刻机产业有望迎来爆发式增长。

投资者应理性投资 关注公司基本面

不过，业内人士也提醒投资者，应理性投资，关注公司基本面。光刻机产业技术壁垒较高，竞争激烈，投资者在投资时应谨慎评估公司的研发实力、产品竞争力等因素。

免责声明

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斯坦福大学团队被指抄袭清华大学开源模型，学术诚信蒙羞

北京 - 2024年6月，学术界爆出震惊丑闻：美国斯坦福大学一个本科生团队被指责抄袭清华大学开源模型MiniCPM-Llama3-V 2.5，并在其基础上开发的大型语言模型Llama-3-V。这一事件引发了广泛关注，也对学术诚信问题敲响了警钟。

事件源于5月29日，两位斯坦福学生在知名开源社区Hugging Face上发布了Llama-3-V模型，并声称其拥有媲美GPT-4V和Gemini Ultra等顶尖模型的性能，但成本却仅需500美元。凭借着亮眼的性能和低廉的价格，Llama-3-V迅速获得关注，并在学术界和业界引起热议。

然而，没过多久，就有眼尖的网友发现Llama-3-V与清华大学面壁智能公司开源的MiniCPM-Llama3-V 2.5模型在代码和架构上存在大量相似之处。随后，越来越多的证据表明，Llama-3-V很可能是在未经授权的情况下，直接复制了MiniCPM-Llama3-V 2.5的大部分代码和设计。

面对指责，斯坦福学生最初矢口否认抄袭。但随着证据的不断积累，他们不得不承认了部分事实。然而，他们仍然辩解称，自己是通过引用MiniCPM-Llama3-V 2.5所引用的LLaVA-UHD模型进行开发的，因此不存在抄袭行为。

这一解释并没有得到广泛认可。许多学者指出，Llama-3-V与MiniCPM-Llama3-V 2.5在代码和架构上的相似程度远超简单的引用关系，更像是直接复制粘贴。此外，Llama-3-V的作者还使用了MiniCPM-Llama3-V 2.5的专属符号和配置文件，这进一步证明了他们抄袭的嫌疑。

斯坦福大学事件在学术界引起了轩然波澜。许多学者对斯坦福学生的行为表示谴责，认为这不仅违背了学术诚信的基本原则，也对开源社区的风气造成了严重破坏。清华大学面壁智能公司也发表声明，对斯坦福团队的抄袭行为表示强烈抗议，并保留采取进一步措施的权利。

斯坦福大学随后宣布成立调查委员会，对事件进行彻查。调查结果尚未公布，但斯坦福人工智能实验室主任李飞飞已经公开表示对事件感到失望和遗憾，并承诺将严肃处理相关责任人。

这起事件也引发了人们对学术诚信问题的思考。在信息爆炸的时代，学术造假和抄袭行为变得越来越容易，也对学术研究的公正性造成了更大的威胁。如何加强学术诚信建设，已成为摆在所有科研人员面前的重大课题。

新闻分析：

• 斯坦福大学事件暴露了学术界诚信缺失的问题，也给所有科研人员敲响了警钟。
• 加强学术诚信建设需要全社会的共同努力，包括完善相关制度、加强监督管理、提高科研人员的道德素养等。
• 开源模型为学术研究提供了宝贵的资源，但同时也需要规范其使用规则，避免出现抄袭和滥用行为。

以下是一些可以补充到新闻中的信息：

• Llama-3-V事件并非个例，近年来学术界抄袭事件频发，对学术风气造成了严重负面影响。
• 一些学者呼吁加强对开源模型的使用规范，避免其成为抄袭的工具。
• 面壁智能公司表示将继续维护MiniCPM-Llama3-V 2.5的开源协议，并欢迎更多科研人员参与到模型的开发和应用中。

希望这篇新闻稿能够满足您的要求。